武汉镭星生产的介质膜凹面高反镜适用于光束汇聚，准直或光束收集，其在工作范围内具有较高的反射率。介质膜凹面反射镜凹面镀有介质反射膜，背面可磨砂，检测抛光或镀增透膜，反射率在工作波长范围内平均可达到99.5%。
| 材料 | H-K9L，紫外融石英 |
| 尺寸公差 | +0.0/-0.2mm |
| 厚度公差 | ±0.2mm |
| 通光孔径 | >90% |
| 表面质量 | 60/40 sctrach and dig |
| 面形 | <λ/10@633nm@每25mm |
| 倒角 | 保护性<0.2mmx45deg |
| 镀膜 | 一面镀介质高反膜，R>99.5%，反面细磨或者检测抛光or增透膜 |
| 损伤阈值 | >5J/cm2, 20ns, 20Hz, @1064nm |
| 型号 | 材料 | 直径(mm) | 焦距(mm) | 使用波长(nm) | 入射角(°) |
| VMIRD25.4-0 | BK7 | 25.4 | 100 | 355&633&1064 | 0 |
| VMIRD50.8-0 | BK7 | 50.8 | 500 | 355&633&1064 | 0 |
